设备用途：
热阻蒸发系统适用于制备金属薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。
设备组成：
该设备主要由金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。可配合手套箱组装。
技术参数：
极限真空度≤6.6×10-5Pa；
抽速：40分钟可达到6×10-4Pa；
热阻蒸发组件:2套；
有机蒸发束源炉组件：1套；
样品尺寸：φ100mm×1片；
样品台温度：300℃；
分子泵系统：1套；
膜厚监测仪（1个探头）：1套；
冷却水路系统：1套；
自动控制系统：1套。
